Описание
Установка предназначена для вакуумного напыления металлических пленок. Размер камеры 900*1900мм, оснащена ионным источником размером 1700мм и магнетроном-1780мм Есть еще установки ВУ1-П4 (ионный источник и магнетрон размером 580*130мм) и ВУ2-П4(магнетрон- 600*150 мм, ионный источник -580*130мм), Обе установки имеют 4 окна для установки протяженных технологических источников